磁控濺射是物理氣相沉積的一種，一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、等多材料，具備簡(jiǎn)單、易于控制 、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)。
各種金屬膜/非導(dǎo)電膜系/光學(xué)厚膜系/高亮銀/紅金膜，按照5.5寸為標(biāo)準(zhǔn)的日產(chǎn)能。
根據(jù)客戶要求及色板鍍各種透過(guò)率的金屬膜（如：透過(guò)率為0%-88%的Cr、 Al、Ni、NI/Cr 等） 。
根據(jù)客戶要求及色板鍍各種透過(guò)率的NCVM膜。
磁控濺射連續(xù)線線體更改，攻克了光學(xué)厚膜層精密控制技術(shù)各種顏色膜系。
高亮銀可生產(chǎn)透過(guò)率5度以下、膜厚120以上的產(chǎn)品，30分鐘一架，預(yù)計(jì)日產(chǎn)能11K。
紅金膜可生產(chǎn)透過(guò)率60到80、膜厚60到120的產(chǎn)品，10分鐘一架，預(yù)計(jì)日產(chǎn)能31K。
根據(jù)客戶的需求及色板調(diào)試各種顏色膜。
語(yǔ)言
151-5817-6029
